Studi Penggunaan Beda Potensial Pada Elektrodeposisi Ion Tembaga(II)

Abstrak

Teknik elektrodeposisi umumnya diterapkan untuk memperoleh penampilan fisik, kekuatan struktural, dan keawetan logam yang baik. Tujuan penelitian ini untuk mengetahui potensial optimum pada elektrodeposisi tembaga(II). Elektrodeposisi menggunakan larutan elektrolit CuSO₄ sebagai sumber ion tembaga(II), H₂SO₄ sebagai elektrolit pendukung, dan HNO₃ sebagai depolarisator. Lempeng platina digunakan sebagai elektroda (katoda dan anoda) dengan variasi beda potensial yaitu 2, 3, 4, 5, dan 6 Volt selama 25 menit. Selama proses elektrodeposisi, peningkatan beda potensial larutan CuSO₄ mempercepat pengendapan logam Cu, namun deposit yang dihasilkan kualitasnya semakin menurun (banyak yang terbakar dan tidak menempel kuat di katoda). Hasil penelitian menunjukkan bahwa kondisi elektrodeposisi optimum dicapai pada beda potensial 2 Volt yang ditunjukkan dengan tampilan deposit yang cemerlang, menempel kuat di katoda, dan memiliki permukaan rata.